什么是等离子蚀刻?

等离子蚀刻是当今世界必不可少的工具，使许多我们认为理所当然的技术成为可能。例如，没有它，智能手机就不可能出现。等离子蚀刻是一种在几乎任何材料中创造特征的方法，特征可以在纳米尺度或100微米尺度上;这种技术可以用来制作所有的东西。

电感耦合等离子体反应-离子蚀刻(ICP-RIE)

电感耦合等离子体刻蚀(ICP-RIE)是等离子体刻蚀的领先技术之一，它在工艺性能方面具有许多优势:

摩尔定律已经将设备的临界尺寸(CD)降至远低于μ m水平。如果你有一个功能，蚀刻在同一方向垂直和水平，这样紧密的阵列设备将很快相互干扰。

ICP-RIE等离子体刻蚀可以产生完美的垂直特征，因此CD得以保持。正是由于这个原因，它被广泛地应用于湿法蚀刻。

采用ICP - RIE的深硅蚀刻

砷化镓VCSEL蚀刻工艺

RIE等离子体蚀刻已经被广泛使用了几十年，虽然它的性能不能与ICP-RIE相媲美，但它是一种简单的技术，在许多应用中都非常有效。万博电脑网页版登录

例如，电介质掩模的等离子蚀刻通常不需要高速率，RIE提供了足够的垂直性来创建伟大的掩模。

二氧化硅(SiO₂) RIE蚀刻

PE蚀刻是等离子蚀刻解决方案中方向性最小的，因此不适合创建精细的垂直特征。它用于高度选择性的各向同性过程中，咬边是可接受的，它可以有选择地清除大面积的材料到底层。

等离子蚀刻是一种复杂的、通用的技术，用于制造各种各样的器件。

PE腐蚀失效分析