离子束沉积(IBD)

离子束沉积是一种多功能、灵活的薄膜沉积技术，可提供可靠、高质量和高性能的涂层，正在得到应用万博电脑网页版登录尤其是在红外器件和高功率激光器，为研发和生产市场。

这个Ionfab^®，我们的离子束系统，是专门设计来生产高质量，高密度的薄膜，表面光滑，厚度精确控制。系统规格允许独立控制束流能量和离子电流密度，实现良好控制和可重复的沉积过程结果。

网络研讨会

氩离子束沉积图

主要好处

精确的沉积厚度和薄膜性能的精细控制
不匹配批次均匀性和过程重复性
较低的工作压力可获得较高的平均自由程和较少的气体散射，从而降低沉积薄膜中的孔隙度和包含气体
薄膜更致密，薄膜纯度更高，化学计量控制更好
在沉积过程中，基底温度可控制在15°C至300°C之间
预清洁能力，提高薄膜附着力
超光滑涂层，低散射，增加膜表面粗糙度~埃级
蚀刻/预清洁源允许在沉积过程中照亮基板，以辅助光束/等离子体控制薄膜特性（例如反应沉积）
目标/衬底的相对角度和可选的振荡允许精确的调整沉积剖面和性质，这是蚀刻而不是dep

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硬件

	Ionfab
离子沉积源	150毫米
沉积区	200毫米
数量的目标	最多4个目标
压板尺寸	高达8英寸晶圆
成品检测	双Xtal监视器或WLOM
压板旋转	高达500转/分
滚筒倾角	光束与基材表面法线之间的0º到75º
滚筒热	嵌入式加热器高达300ºC
压板冷却	流体冷却剂5ºC至60ºC，带有He或Ar背面气体，用于衬底冷却(高达50Torr)
协助或预清洁水源	150mm和300mm射频离子源

IBD是如何工作的？

高能离子束轰击并溅射来自目标的材料，从而形成沉积在样品表面的材料羽流。离子束沉积的薄膜层特性，如折射率、吸收、散射、附着力和堆积密度，可以通过改变束流参数，如束流通量和能量，压板相对于入射材料和气体流量的取向来精细地调整。

离子束沉积(IBD)是离子束溅射沉积薄膜的三种方法之一:IBD、RIBD和IBAD。

反应离子束沉积(RIBD)活性气体，如N_2.或者_2.在沉积薄膜时，在腔室内注入，以调整氧化物或氮化物的化学计量比。

离子束辅助沉积(IBAD):辅助源还可以与沉积源一起使用，以在薄膜生长时修改其特性。在薄膜沉积之前，可使用相同的源进行预清洁，以增强附着力。

特性

沉积离子源：15cm，13.56MHz驱动
气源进气
多个目标，最多四个，带快门
三格集钼，最大限度地提高沉积速率和膜纯度
旋转和可倾斜基板支架，可选择高速旋转（最高500rpm）（标准20rpm）
现场监测比气体分压和闭环反馈控制能力，以提高薄膜性能(如VO)的重复性和精细控制_x)
专利高速基板支架（高达500RPM），配备白光光学监视器（WLOM），设计用于非常精确的现场光学薄膜控制，特别是用于高功率激光设备

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激光小面涂层(包括高反射和增透)
环形激光陀螺镜
X射线光学
基于ii - vi的红外(IR)传感器
红外传感器（氧化钒，II-VI）
电信滤波器
金属径迹沉积：金、铬、钛、铂、锌等
磁性材料：铁、钴、镍等

离子束沉积32层梯度折射率透镜

32层GRIN透镜与IBD

7层带离子束沉积的GRIN结构

7层带有IBD的GRIN结构

离子束系统

Ionfab是我们的柔性离子束蚀刻和沉积系统，设计用于研究、中试和全尺寸生产。该系统提供两种选择的腔室;标准和大型，可在200毫米的晶圆上进行IBD工艺。

应用特定的配置优化允许生产高质量的超低污染薄膜
提供优良的均匀性和重现性
非常精确的原位光学薄膜控制(原位WLOM，高速选项)

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