强大的离子束蚀刻加工解决方案

离子束技术通过提供单一工具和最大限度地利用系统，提供了一种非常通用的蚀刻方法。离子束蚀刻提供了最大的灵活性和优良的均匀性。

离子束蚀刻(或铣削)是通过在高真空室中将一束带电粒子(离子)对准具有适当图案掩模的衬底来实现的。它使高定向中性离子束控制侧壁轮廓，以及径向均匀性优化和特征塑造在纳米图案。

倾斜的特征可以通过改变离子束冲击的方向使样品倾斜的独特能力来创建。

我们的离子束系统，离子fab，可以配置为蚀刻(IBE)和沉积(IBD)技术。

IBE的主要好处

• 允许束能量和离子通量独立控制
• 过程在低压工作环境中进行
• 产生各向异性蚀刻
• 为所有已知的材料提供蚀刻方法
• 由于相对于样品/掩模表面的可变蚀刻光束角度，允许角度轮廓控制

除了我们的IBE技术，我们还提供离子束沉积(IBD)解决方案。

离子束沉积是一种用途广泛、灵活的薄膜沉积技术，可提供可靠、高质量和高性能的涂层，特别是在红外器件和高功率激光器中得到应用。万博电脑网页版登录

我们的离子束系统同时具备IBE和IBD技术。