强大的离子束沉积处理解决方案

了解我们行业领先的IBD解决方案和系统，实现从红外传感器到数据通信的应用。万博电脑网页版登录

离子束沉积(IBD)溶液

离子束沉积(IBD)提供了一种非常通用的沉积方法。我们的离子束沉积产品能够产生高质量、致密和光滑表面的沉积膜。

我们的系统有灵活的硬件选择，包括开放加载和卡带到卡带。系统规格密切调整应用，使更快和可重复的过程结果。万博电脑网页版登录

折射率、吸收、散射、粘附和堆积密度等性能可以通过改变束流参数(如束流通量和能量、相对于入射材料的压板方向和气体流量)来调整。

IBD的主要好处

高品质薄膜，超低污染
高吞吐量，减少占地面积，降低操作成本
无与伦比的批处理均匀性和工艺再现性
非常精确的光学薄膜厚度控制
极低的表面膜粗糙度

炎症性肠万博电脑网页版登录病的应用程序

激光刻面涂层(包括高反射和减反射)
环形激光陀螺反射镜
x射线光学
ii - vi型红外传感器
红外传感器(钒氧化物，II-VI)
电信的过滤器

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Ionfab IBD系统

我们的离子束沉积(IBD)系统是高质量材料加工的热门选择。我们的系统有灵活的硬件选项，包括单衬底负载锁和盒式磁带到盒式磁带。系统规格密切调整应用，使更快和可重复的过程结果。万博电脑网页版登录

多模式功能
能够与其他等离子蚀刻和沉积工具聚类
双光束配置
极低的表面膜粗糙度
高级研究应用的灵活配置万博电脑网页版登录
无与伦比的均匀性和生产过程的再现性
灵活的晶圆处理能力-单片晶圆负载锁定或盒式到盒式机器人处理器

查看完整硬件规格>

更多的信息

离子束蚀刻(IBE)解决方案

除了IBD技术，我们还提供离子束蚀刻(IBE)解决方案。

离子束蚀刻(或铣削)是通过将带电粒子(离子)束引导在高真空室中带有适当图案掩模的基板上实现的。它使高定向中性离子束能够控制侧壁轮廓，并在纳米图案过程中优化径向均匀性和特征塑造。

我们的离子束系统同时具备IBE和IBD技术。

了解更多

IBE应万博电脑网页版登录用程序

倾斜的腐蚀
激光刻面
磁阻随机存取存储器(MRAM)
介质的电影
III-V光子蚀刻
自旋电子学
金属接触和履带
超导体

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