原子层沉积(ALD)是一种先进的沉积技术,允许一些纳米超薄薄膜沉积在一个精确控制的方法。不仅ALD提供优秀的厚度控制和均匀性,但3 d结构可以保形涂层覆盖high-aspect-ratio结构。
除了热ALD的好处,血浆ALD允许更广泛的选择前体的化学增强电影质量。它提供了:
FlexAL原子层沉积(ALD)系统提供了一个广泛的高质量的血浆ALD和优化热退化过程最大的灵活性的前兆,过程气体和硬件配置在一个过程。
射频偏压电极选项用于控制电影的属性
行业标准盒式磁带处理更高的吞吐量
最大的灵活性在前体的选择、过程气体,硬件特性和选项
优化维护低损、高质量的基质
专门为大容量设计制造、Atomfab提供快速、低伤害、低血浆ALD首席运营官生产处理氮化镓功率和射频设备。
Atomfab为高级应用程序提供了精确控制超-薄膜在纳米范围内,随着保形涂层基质的敏感结构。万博电脑网页版登录
原子层蚀刻(ALE)是一种先进的腐蚀技术,允许优秀的深度控制浅特性。作为设备特征尺寸进一步减少,啤酒还需进一步实现最佳性能所需的精度。
Plasma-based原子层蚀刻是一种周期性的蚀刻过程气体计量和离子轰击,可去除材料一层一层地和有可能删除非常低的单原子层的破坏。
100年PlasmaPro啤酒提供了精确的过程控制为下一代半导体设备腐蚀。
特殊设计等流程休会蚀刻GaN HEMT应用和纳米层蚀刻、系统的数字/周期性腐蚀过程提供了低伤害,光滑的表面。万博电脑网页版登录