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离子束防污染屏蔽
离子束防污染屏蔽
新的防污染屏蔽(ACS)消除了蚀刻源的过程中或交织清洗/调节的需要,在给定的配方中同时使用蚀刻和沉积源,从而获得更高的吞吐量。Ionfab的防污染屏蔽(ACS)有两个主要功能:
防止和/或减少Ionfab靶溅射材料沉积到30cm蚀刻源网格上。
防止和/或减少在离子束沉积(IBD)过程中由于外来材料(即从室内家具)溅射而沉积在基材上的膜的潜在污染。它的设计主要是为了防止材料从后壁/衬垫溅射,因为周围的离子束从目标溢出,到达基板。
好处
显著减少蚀刻网格再沉积
减少腐蚀源污染
减少网格之间的薄片
增加网格清洗之间的平均清洗时间
减少工具停机时间
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