牛津仪器集团的一部分狗万正网地址
扩大

PlasmaPro 800 PECVD

PlasmaPro 800在紧凑的占地面积、开放式加载系统中,为大批量和300毫米晶圆上的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺提供了灵活的解决方案。大型晶圆压板允许批量生产和300毫米晶圆处理。

  • 高性能的过程
  • 优良的衬底温度控制
  • 精确的过程控制
  • 300mm单晶圆失效分析的成熟工艺


要求定价添加到报价表中

PlasmaPro 800的直径为460mm,可提供完整的300mm或大批量43 × 50mm(2”)产能,实现全面的生产解决方案,并使PlasmaPro 800成为经过充分验证的市场领先产品。

PlasmaPro 800为化合物半导体、光电子和光电子应用提供了最大的工艺灵活性,它提供:万博电脑网页版登录

大的电极-低拥有成本

蚀刻终点检测—可靠性和可服务性

通过激光干涉测量和/或光学发射光谱进行端点检测-可安装加强蚀刻控制

4线、8线或12线气舱的选项-在工艺和工艺气体方面提供灵活性,可远程安装在服务区,远离主工艺工具

紧密耦合涡轮泵-泵送速度快,基压好

数据采集-腔室和工艺条件的可追溯性和历史

流体冷却和/或电加热电极优良的电极温度控制和稳定性

  • 故障分析使用我们专门配置的故障分析工具(RIE和双模)进行干法蚀刻去处理
  • RIE/PE工艺范围从封装芯片和模蚀刻到全300mm晶圆蚀刻
  • 高质量的SiNx和SiO PECVD2用于光子学,介质层钝化和许多其他应用万博电脑网页版登录
  • SiO2、SiNx和石英蚀刻
  • 金属和聚酰亚胺蚀刻
  • 用于高亮度LED生产的钝化沉积
  • III-V腐蚀过程
下载PlasmaPro 800小册子

全球客户支持

狗万正网地址牛津仪器致力于提供全面、灵活和可靠的全球客户支持。我们在您系统的整个生命周期内提供优质服务。

  • 远程诊断软件提供快速简便的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可根据预算和情况提供。
  • 在战略位置提供全球备件,快速响应。
了解更多

新:PTIQ软件

PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab加工设备的最新智能软件解决方案。

  • 异常灵敏的系统控制
  • 优化系统和过程性能
  • 不同级别的软件以满足您的需求
  • 全新直观的布局设计
了解更多

选择权

PlasmaPro 800 PECVD

  • 设计用于生产高质量的均匀介质膜。PECVD中的应力控制由可选择或混合的高频/低频等离子体电源提供,使沉积的薄膜能够调整为拉伸、压缩或低应力。

800年PlasmaPro RIE

  • 经过验证的干式蚀刻广泛应用于整个行业。

相关应用程序万博电脑网页版登录

失效分析 制作 发光器件的制造和特性 BioMEMS制造

即将来临的事件

最新消息