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扩张

plasmapro 100 ICPCVD

该ICPCVD工艺模块旨在在低增长温度下生产高质量的薄膜,通过高密度远​​程等离子体实现,可实现较低的膜质量,并具有低底物损害。

  • 出色的均匀性,高吞吐量和高精度过程

  • 高质量的电影
  • 宽温度范围电极
  • 与最高200mm的所有晶圆尺寸兼容
  • 晶圆尺寸之间的快速变化
  • 低成本和易用性
  • 紧凑的足迹,灵活的布局
  • 电阻加热电极,功能高达400°C或1200°C
  • 原位室清洁和端点
  • 使用液体前体,例如TIO2使用ttip,Sio2使用teos


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  • 优质的低损伤膜在降低温度下。
  • 沉积的典型材料包括Sio2,,,,si3n4和Sion,sisic在低至5ºC的底物温度下
  • ICP源尺寸为65mm,180mm,300mm交付过程均匀性
    最多200mm晶片
  • 电极可用于5ºC至400ºC的温度范围
  • 获得专利的ICPCVD气体分销技术
  • 原位室清洁,端点
  • 使用液体前体,例如TIO2使用ttip,Sio2使用teos

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全球客户支持

狗万正网地址牛津仪器致力于提供全面,灵活和可靠的全球客户支持。我们在您的系统中提供出色的质量服务。

  • 远程诊断软件提供了快速简便的故障诊断和分辨率。
  • 支持合同可满足预算和情况。
  • 在战略位置进行全球备件以进行快速响应。
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新:PTIQ软件

PTIQ是用于浆离和离子FAB处理设备的最新智能软件解决方案。

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  • 全新的直觉布局和设计
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选项

  • 墙加热减少室墙沉积
  • 机械夹具的氦背面冷却可确保均匀的晶圆温度和优化的膜特性

升级/配件

气荚- 结合额外的气体管线并允许更大的灵活性

LogViewer软件-Datalogging软件允许实时绘图和后运行分析

光学终点检测器- 实现最佳过程结果的重要工具

软泵- 允许慢速抽水真空室

涡轮分子真空泵- 提供较高的抽水速度和更高的吞吐量

X20控制系统- 提供未来的证明,灵活和可靠的工具,并增加了系统的“智力”

先进的能源最重要的发电机- 提供提高的可靠性和更高的血浆稳定性

自动压力控制- 该控制器确保非常快速准确的压力控制

双CM量规切换- 提供通过单个压力控制阀利用两个不同电容压力计的不同范围

LN2自动调节单元- 使桌冷却液自动在液氮(LN2)和冷却器流体之间自动切换

TEOS液位感测- 使用安装在TEOS罐中的超声传感器实现水平传感

宽温度范围电极- 显着的设计改进以提高过程性能

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