地点:
德国德累斯顿
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等离子体技术
PlasmaPro 100 Polaris单晶片蚀刻系统提供智能解决方案,以产生您需要的蚀刻结果,以保持您的竞争优势。
PlasmaPro 100 Polaris是专门为蚀刻坚硬材料(如GaN、蓝宝石和SiC)所需的严酷化学环境而设计的,在直径达200mm的晶片上,其蚀刻速度均匀快速。
主动冷却电极在蚀刻过程中保持样品温度
高功率ICP源-产生高密度等离子体
可靠的硬件和易于使用-优秀的正常运行时间
磁隔离-增强离子控制和均匀性
专用静电钳技术-能够夹紧蓝宝石,蓝宝石上的GaN和硅
加热室衬垫-优化以减少室壁沉积
高级自动匹配装置(AMU)-允许快速、高效、准确的匹配,实现卓越的工艺重复性
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