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Cobra®ICP等离子体源产生低压下的高密度活性物质。衬底直流偏压由一个单独的射频发生器驱动,允许根据工艺要求独立控制自由基和离子。

狗万正网地址牛津仪器公司的PlasmaPro 100过程模块提供了一个200mm的平台单片和多片批处理能力。该工艺模块提供高吞吐量,高精度和良好的均匀性,干净光滑的垂直轮廓和蚀刻表面。我们的系统在大批量生产(HVM)中拥有广泛的安装基础,并拥有完善的工艺解决方案。

特性

  • 将活性物质输送到衬底,通过腔室具有均匀的高电导路径-允许在保持低腔压的同时使用高气体流量,这为高级应用开发提供了广阔的工艺窗口
  • 宽温度范围的电极,可以通过流体再循环冷却器冷却到-20°C和液氮-150°C,或电阻加热到400°C-可选喷吹和流体交换单元可以自动切换模式,-20°C到-150°C的转换只需10分钟
  • 由再循环冷水机组提供的流体控制电极出色的衬底温度控制
  • ICP源尺寸为65mm300毫米- 300mm源提供卓越的工艺均匀性,可达200mm晶圆
  • Wafer夹紧与He背面冷却-最佳晶圆温度控制
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  • III-V蚀刻工艺的广泛库
  • 量子器件的NbN和Ta
  • 复合半导体应用:万博电脑网页版登录
  • 广泛的金属蚀刻工艺库:铝,铬,镍等
  • SiOx和二氧化矽腐蚀
  • 熔融石英和石英蚀刻
  • 如果腐蚀
  • SiO2和SiNx硬掩模蚀刻
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金属屏蔽熔融石英sem"title=
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晶片尺寸:可达200毫米

ICP源尺寸可选:65毫米和300毫米

温度范围:从-150到400°C

集群:多达5个模块,包括ALD, PECVD,离子束蚀刻和离子束沉积等技术

PlasmaPro 100手册
网络研讨会:InP器件的等离子体工艺
白皮书:InP激光二极管器件生产:DFB光栅蚀刻
下载手册

案例研究

我们与两位来自格拉斯哥大学的研究人员进行了一次信息丰富的交谈,他们分享了他们在大学内最先进的詹姆斯瓦特纳米制造中心(JWNC)无尘室进行的创新项目。

Jharna Paul博士和Valentino Seferai使用牛津仪器的PlasmaP狗万正网地址ro®100 Cobra ICP RIE系统来制造超导量子比特。

我们使用牛津仪狗万正网地址器的PlasmaPro 100 Cobra ICP蚀刻系统,因为你可以有效地控制等离子体,功率,气体输送,腔室压力和基板温度。格拉斯哥大学研究助理Jharna Paul博士说

全球客户支持

狗万正网地址牛津仪器致力于为全球客户提供全面、灵活和可靠的支持。我们在您的系统的整个生命周期内提供优质的服务。

  • 远程诊断软件提供快速、简便的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可以满足预算和情况。
  • 全球备件在战略位置,以快速反应。
了解更多

新:PTIQ软件

PTIQ是最新的智能软件解决方案的等离子体和离子fab加工设备。

  • 响应系统控制的异常水平
  • 优化系统和流程性能
  • 不同级别的软件,以满足您的需求
  • 全新直观的布局和设计
了解更多

选项

其他PlasmaPro 100系统包括:

PlasmaPro 100 RIE

  • RIE模块为广泛的工艺提供各向异性干法蚀刻。

PlasmaPro 100 ICPCVD

  • ICP CVD工艺模块设计用于在低沉积压力和温度下用高密度等离子体在室温到400°C范围内生产高质量的薄膜。

PlasmaPro 100 PECVD

  • PECVD工艺模块专门设计用于生产优良的均匀性和高速率薄膜,可控制薄膜性能,如折射率、应力、电特性和湿化学蚀刻速率。

升级/配件

气体豆荚-安装额外的煤气管道,并允许更大的灵活性

Logviewer软件-数据记录软件允许实时绘图和后运行分析

光学终点检测器-实现最佳工艺结果的重要工具

软泵-允许缓慢泵下真空室

涡轮分子真空泵-提供卓越的泵送速度和更高的吞吐量

控制系统-提供了一个未来的证明,灵活和可靠的工具,增加了系统的“智能”

先进能源派拉蒙发电机-提供更高的可靠性和更大的等离子稳定性

自动压力控制-该控制器确保非常快速和准确的压力控制

双CM表开关-通过一个压力控制阀,可以使用两个不同范围的电容压力计

LN2自动转换装置-使台面冷却液在液氮(LN2)和冷水机之间自动切换

TEOS液位传感-水平感应是使用安装在TEOS罐上的超声波水平传感器来实现的

宽温度范围电极-显著的设计改进,以提高工艺性能

即将来临的事件

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