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plasmapro 100纳米CVD

化学蒸气沉积(CVD)和PECVD生长1D/2D纳米材料和异质结构的工具。Plasmapro 100 Nano(以前为纳米型)可通过原位催化剂激活和严格的过程控制纳米材料的高性能生长,柔性温度高达1,200°C。

  • 优异的均匀性,柔性温度高达1200°C

  • 700°C,800°C或1200°C的选项
  • 样本量最高200mm

  • 真空负载锁 - 快速样品交换

  • 带有淋浴间的均匀前体交付的冷墙设计
  • 可选的液体/固体源输送系统,用于MOS的生长2,摩西2和其他TMDC


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  • 优异的均匀性,柔性温度高达1200°C

  • 700°C,800°C或1200°C的选项
  • 样本量最高200mm

  • 真空负载锁 - 快速样品交换

  • 带有淋浴间的均匀前体交付的冷墙设计
  • 可选的液体/固体源输送系统,用于MOS的生长2,摩西2和其他TMDC

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升级/配件

气荚- 结合额外的气体管线并允许更大的灵活性

涡轮分子真空泵- 提供较高的抽水速度和更高的吞吐量

光学终点检测器- 实现最佳过程结果的重要工具

TEOS液位感测- 使用安装在TEOS罐中的超声传感器实现水平传感

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