化学蒸气沉积(CVD)和PECVD生长1D/2D纳米材料和异质结构的工具。Plasmapro 100 Nano(以前为纳米型)可通过原位催化剂激活和严格的过程控制纳米材料的高性能生长,柔性温度高达1,200°C。
优异的均匀性,柔性温度高达1200°C
样本量最高200mm
真空负载锁 - 快速样品交换
可选的液体/固体源输送系统,用于MOS的生长2,摩西2和其他TMDC
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PTIQ是用于浆离和离子FAB处理设备的最新智能软件解决方案。
气荚- 结合额外的气体管线并允许更大的灵活性
涡轮分子真空泵- 提供较高的抽水速度和更高的吞吐量
光学终点检测器- 实现最佳过程结果的重要工具
TEOS液位感测- 使用安装在TEOS罐中的超声传感器实现水平传感
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