PlasmaPro 100纳米CVD

PlasmaPro 100 Nanofab CVD

PlasmaPro 100 Nanofab CVD侧视图

PlasmaPro 100 Nanofab CVD

用于1D/2D纳米材料和异质结构生长的化学气相沉积(CVD)和PECVD工具。PlasmaPro 100 Nano(原Nanofab)通过原位催化剂激活和严格的过程控制，提供高性能的纳米材料生长，灵活的温度可达1200°C。

优异的均匀性，柔性温度可达1200°C
700°C, 800°C或1200°C表的选项
样品尺寸可达200mm
真空负载锁-快速样品交换
冷壁设计，以淋浴头为基础，均匀输送前驱体
可选的液体/固体源输送系统生长的MoS₂,摩斯₂和其他TMDCs

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优异的均匀性，柔性温度可达1200°C
700°C, 800°C或1200°C表的选项
样品尺寸可达200mm
真空负载锁-快速样品交换
冷壁设计，以淋浴头为基础，均匀输送前驱体
可选的液体/固体源输送系统生长的MoS₂,摩斯₂和其他TMDCs

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新:PTIQ软件

PTIQ是PlasmaPro和Ionfab处理设备的最新智能软件解决方案。

响应系统控制的卓越水平
优化系统和工艺性能
不同级别的软件，以满足您的需求
全新的直观布局和设计

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升级/配件

气体豆荚-加入额外的气体管道，并允许更大的灵活性

涡轮分子真空泵-提供优越的泵送速度和更高的吞吐量

光学端点检测器-实现最佳工艺结果的重要工具

TEOS液位传感使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感

即将来临的事件

比利时根特

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等离子体技术

比利时布鲁塞尔

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德国德累斯顿

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迪拜,阿联酋

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