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等离子体技术
牛津仪器集团的一部分狗万正网地址
ALD产品家庭包括一系列工具，以满足学术界各种各样的需求，企业研发和小规模生产。狗万正网地址牛津工具有一个广泛的过程库，并且不断发展新的过程。我们为任何ALD工具的使用寿命提供免费的正在进行的流程支持，提供有关开发新材料的建议，并继续访问我们最新的ALD流程开发，包括新的过程配方。
离子在血浆ALD过程中发挥着重要作用。离子可以改善膜质，特别是对于氮化物和较低的沉积温度。然而，某些界面和基板可以对导致装置损坏的离子敏感。柔性ALD系统精确地控制等离子体离子与先进的等离子体源和自动匹配单元（AMU）控制等离子体，从而最大限度地减少损坏的血浆的最大益处。
图像：等离子体ALD-Al的高保形性2.O3.（左图）和硅2.（右图）-礼貌通过埃因霍温科技大学
图片：sio2的保形沉积2.，TiO2.氧化铝3.血浆醛固酮法,（CC乘4.0许可），图像库www.atomiclimits.com., 2021
晶圆尺寸：高达200毫米
等离子体源发生器：300瓦或600瓦
温度范围：从30到550°C（带表偏见）
先兆
群集于：PECVD、ICPCVD、RIE和溅射模块
我们与埃因霍温理工大学（TU/E）合作了15多年，我们一起继续在原子层沉积（ALD）研究中取得重大进展，这是在纳米加工的许多应用中使用最迅速的技术之一。万博电脑网页版登录
我们非常高兴地从TU / E展示了使用牛津仪器柔性ALD系统的TU / E两个博士学位的研究项目，该射流耦合等离子源具有高质量的沉积。狗万正网地址使用先进的等离子体ALD技术，Karsten艺术已经实现了对高纵横比特征的保形沉积，Marc Merkx实现了氮化钛（锡）的高度选择性生长。
狗万正网地址牛津仪器致力于提供全面、灵活和可靠的全球客户支持。我们在您系统的整个生命周期内提供优质服务。
FlexAL2D系统为纳米器件应用提供了2D过渡金属二卤化物（TMDC）的ALD，并为2D材料的生长提供了许多好处万博电脑网页版登录
二维材料生长
2D材料的稳健ALD工艺
可调形态
气荚-包括额外的气体管线，并允许更大的灵活性
Logviewer软件-数据记录软件允许实时绘图和运行后分析
光学端点检测器-实现最佳工艺结果的重要工具
X20控制系统- 提供未来的证明，灵活可靠的工具，系统的“智力”增加
双厘米开关-能够通过一个压力控制阀使用两个不同范围的电容压力计
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