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FlexAL退化

FlexAL原子层沉积(ALD)系统提供了广泛的优化的高质量等离子ALD和热ALD工艺,在前体、工艺气体和单个工艺室的硬件配置方面具有最大的灵活性。

  • 远程等离子体低损伤等离子体ALD结合热ALD在一个沉积室

  • 可选择射频偏压电极控制薄膜性能

  • 工业标准盒式磁带处理更高的吞吐量

  • 在前体、工艺气体、硬件特性和选项的选择上具有最大的灵活性

  • 优化以保持低损伤,高质量的基材

  • 可拆卸的衬套便于腔室的维护

  • 低温使高质量的沉积在温度敏感的表面


要求定价添加到报价表中

ALD产品系列包括一系列工具,以满足学术界、企业研发和小规模生产的各种需求。狗万正网地址牛津仪器有一个广泛的工艺库,新的工艺正在不断开发。我们为任何ALD工具的生命周期提供免费的持续工艺支持,提供开发新材料的建议,并持续访问我们最新的ALD工艺开发,包括新工艺配方。

离子在等离子体ALD过程中起着重要作用。离子可以改善薄膜质量,特别是在较低的沉积温度下对氮化物。然而,某些界面和衬底可能对离子敏感,从而导致器件损坏。FlexAL ALD系统通过先进的等离子源和自动匹配单元(AMU)精确控制等离子离子,在最大限度地减少等离子体损害的同时,实现等离子体的最大效益。

  • 用于集成原位分析设备的腔室端口/窗口,例如椭偏仪
  • 自动单晶片负载锁定,以装载衬底高达200毫米
  • 可聚集的附加过程模块与真空室之间的传输
  • 充分说明前体交换程序与清单
  • 洁净室接口可用于穿墙安装
  • 臭氧发生器可集成
  • 广泛的电极选择-接地和偏置电极
  • 涡轮分子泵有利于水分敏感的氮化物和金属
  • RF表偏压选项,用于增强薄膜性能,如电导率,结晶度,应力控制
  • 用于量子器件的超导氮化物(如TiN, NbN)
  • GaN HEMT预处理和钝化
  • 用于石墨烯钝化的高质量高k栅氧化物(例如氧化钛、氧化硅、氧化镓)
  • 二维过渡金属二卤族化合物ALD
  • 无针孔钝化层的oled和聚合物
  • 晶体硅太阳能电池的钝化
  • ALD防潮屏障和敏感基材的钝化
  • 微流体器件的高度共形涂层

氧化铝等离子ALD -由TUe提供
二氧化硅等离子体ALD -由TUe提供

图片:血浆ALD Al的高适形性2O3.(左图)SiO2(右图)礼貌通过埃因霍温理工大学

等离子体ALD共形沉积SiO2、TiO2和Al2O3

图片:SiO的共形沉积2, TiO2和Al2O3.由血浆ALD(CC BY 4.0许可),图像库在www.AtomicLimits.com, 2021年

晶片尺寸:高达200mm

等离子体源发电机:300w或600w

温度范围:从30°C到550°C(带表偏差)

前体

  • 用于研究(最多100克)和生产(最多500克)的前体选择
  • 多达8种金属液体或固体快速冒泡前体
  • 多达10个等离子体和热气体前体
  • 水锅标准
  • 臭氧发生器可选

集群:PECVD, ICPCVD, RIE和Sputter模块

FlexAL ALD小册子
案例研究:埃因霍温理工大学
博客:二维材料的原子层沉积
下载手册

案例研究

我们与埃因霍温理工大学(TU/e)合作超过15年,共同在原子层沉积(ALD)研究方面不断取得重大进展,这是纳米制造的许多应用中发展最迅速的技术之一。万博电脑网页版登录

我们非常高兴地向大家介绍来自TU/e的两位博士生的研究项目,他们使用了牛津仪器的FlexAL ALD系统,该系统具有远程感应耦合等离子体源,实现了高质量的沉积。狗万正网地址利用先进的等离子体ALD技术,Karsten Arts实现了高纵横比特征的共形沉积,Marc Merkx实现了氮化钛(TiN)的高度选择性生长。

全球客户支持

狗万正网地址牛津仪器致力于为全球客户提供全面、灵活、可靠的支持。我们提供优质的服务贯穿您系统的整个生命周期。

  • 远程诊断软件提供快速、简单的故障诊断和解决方案。
  • 支持合同可根据预算和情况提供。
  • 在战略位置提供全球备件,快速响应。
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选项

FlexAL2D

FlexAL2D系统为纳米器件应用提供了二维过渡金属二卤族(TMDCs) ALD,并为二维材料的生长提供了许多好处万博电脑网页版登录

二维材料的增长

  • 在CMOS兼容温度下
  • 精密数码厚度控制
  • 大面积(200mm晶圆)

2D材料的健壮ALD工艺

  • 自限性ALD的增长。
  • 金属氧化物半导体2
  • 无氧无碳(< 2%)
  • 每周期高生长~0.1 nm/周期
  • 晶体材料超过300°C

可调形态

  • 控制基面或边面方向
  • 在一个工具中在2D材料上生长ALD电介质和其他ALD层
  • 创建高级2D设备结构
  • 用于薄膜特性控制的射频基片偏置选项

升级/配件

气体豆荚-加入额外的天然气管道,并允许更大的灵活性

Logviewer软件-数据记录软件允许实时绘图和运行后分析

光学端点检测器-实现最佳过程结果的重要工具

X20的控制系统-提供了一个未来的证明,灵活和可靠的工具,增加了系统的“智能”

双CM规开关-通过一个压力控制阀,可以使用两个不同量程的电容压力计

即将来临的事件

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