ALD产品系列包括一系列工具,以满足学术界、企业研发和小规模生产的各种需求。狗万正网地址牛津仪器有一个广泛的工艺库,新的工艺正在不断开发。我们为任何ALD工具的生命周期提供免费的持续工艺支持,提供开发新材料的建议,并持续访问我们最新的ALD工艺开发,包括新工艺配方。
离子在等离子体ALD过程中起着重要作用。离子可以改善薄膜质量,特别是在较低的沉积温度下对氮化物。然而,某些界面和衬底可能对离子敏感,从而导致器件损坏。FlexAL ALD系统通过先进的等离子源和自动匹配单元(AMU)精确控制等离子离子,在最大限度地减少等离子体损害的同时,实现等离子体的最大效益。
图像:等离子体ALD-Al的高保形性2.O3.(左图像)和硅2.(右图)-礼貌通过埃因霍温科技大学
图片:sio2的保形沉积2.,TiO2.和Al2o3.血浆醛固酮法,(CC BY 4.0许可),图像库在www.AtomicLimits.com, 2021
晶片尺寸:高达200毫米
等离子体源发电机:300瓦或600瓦
温度范围:从30°C到550°C(带表偏差)
前体
群集于:PECVD、ICPCVD、RIE和溅射模块
我们与埃因霍温技术大学(TU / E)合作,我们共同合作,我们继续在原子层沉积(ALD)研究中取得重大进展,这是纳米制剂许多应用中使用的最迅速发展的技术之一。万博电脑网页版登录
我们非常高兴地向大家介绍来自TU/e的两位博士生的研究项目,他们使用了牛津仪器的FlexAL ALD系统,该系统具有远程感应耦合等离子体源,实现了高质量的沉积。狗万正网地址利用先进的等离子体ALD技术,Karsten Arts实现了高纵横比特征的共形沉积,Marc Merkx实现了氮化钛(TiN)的高度选择性生长。
狗万正网地址牛津仪器致力于提供全面,灵活可靠的全球客户支持。我们在整个系统中提供优质的服务。
FlexAl2D系统为纳米型应用提供了2D过渡金属二甲基甲基甲基(TMDC)的ALD,为2D材料的生长提供了许多益处万博电脑网页版登录
二维材料生长
2D材料的稳健ALD工艺
可调形态
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