氮化硅

氮化硅（Sinx）广泛用于半导体行业。它的应用程万博电脑网页版登录序包括设备钝化和蚀刻口罩。si₃n₄可以使用以下技术沉积：

良好的均匀性和轮廓，损坏低。

各向异性和各向同性曲线以优化的均匀性提供具有竞争力的蚀刻速率。

竞争性蚀刻速率，选择性和轮廓。

氮化硅是ALD的具有挑战性的材料。我们的系统允许高材料质量和低损伤沉积，即使在低沉积温度下也是如此。ALD硝酸盐可用于水分屏障应用，并用作晚期晶体管的间隔者。万博电脑网页版登录

高材料质量和低伤害，即使在低沉积温度下也是如此。

可以使用不同的化学：纯和稀释的硅烷
高品质的电影低矮的电影
出色的膜厚度均匀性
NH的低氢含量₃免费过程
膜应力控制
折射率控制
低温沉积至20°C
5-100nm/min的沉积率

可以使用不同的化学：纯和稀释的硅烷
高品质的电影低矮的电影
出色的膜厚度均匀性
NH的低氢含量₃免费过程
膜应力控制
折射率控制
5-500nm/min的沉积率

具有竞争性沉积率和受控应力的出色化学计量法。