白皮书
VCSEL MESA制造的高级端点控制技术

VCSEL市场的规模正在增加，并且迫切需要证明高质量，高质量的制造业。制造VCSEL的最关键步骤之一是孔的形成。富含铝的层在富含氧气的气氛下在高温下在炉子中氧化。然后，P MESA的干蚀刻过程旨在在氧化之前暴露富含铝的层。

孔堆栈中光圈的位置将取决于VCSEL制造商选择的设计和目标电流性能。为了允许VCSEL供应商制造特定的设计，因此必须能够在外延堆栈中的任何层停止。必须在最后一层具有精确控制的完整晶片上逐层蚀刻。

传统的时间控制蚀刻处理能够支持高度可靠的制造，但是，端点技术通过允许运行运行的蚀刻变化以及输入材料目标厚度的变化，可以将蚀刻深度分布到目标层。现有的端点方法已量身定制，以满足VCSEL制造的大量，高收益要求。

通过结合强大的流程专业知识和深入的设备理解，牛津工具等离子技术开发了先进的等离子体处理解决方案，以实现当前和未来的VCSEL设计。狗万正网地址