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我们开发了一套创新的等离子体工艺解决方案，旨在实现最大碳化硅（SIC）器件性能。
在本次网络研讨会中，您将学习关于等离子蚀刻和沉积如何在制作优秀器件中发挥重要作用的五大技巧:
Mark Dineen博士拥有超过20年的等离子加工经验。他最近的工作包括将这些知识应用于从半导体激光器到基于GaN的RF器件的各种设备。
Mark现在是一名经验丰富的技术营销经理，并展示了传播复杂的技术思想和科学概念的历史，以改变受众。这些技术包括ALD，ALE，CVD，ICP，PECVD和RIE等离子处理，并涵盖这些技术如何为客户提供设备解决方案。
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