我们开发了一套创新的等离子体工艺解决方案,旨在实现最大的碳化硅(SiC)设备性能。
在本次网络研讨会中,您将了解我们的五大提示,了解等离子体蚀刻和沉积如何在制造伟大的设备中发挥重要作用:
你想知道的关于SiC等离子工艺解决方案,但又不敢问的一切!
Mark Dineen博士拥有超过20年的血浆加工经验。他最近的工作包括将这一知识应用到从半导体激光器到gan基射频器件的广泛设备中。
Mark现在是一名经验丰富的技术营销经理,有向不同受众传播复杂技术思想和科学概念的经验。这些技术包括ALD, ALE, CVD, ICP, PECVD和RIE等离子体处理,并涵盖了如何为我们的客户提供设备解决方案。