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即将到来的网络研讨会

2021年10月21日|下午3:00(英国夏令时)

InP器件和III-V材料的等离子体工艺

以前的网络研讨会

高RI材料的斜蚀刻

高质量量子器件的制造工艺

量子技术的职业，市场和技能是必需的

深硅蚀刻技术及其在器件制造中的应用万博电脑网页版登录

来自印度第九届纳米技术年度活动的量子技术研讨会

钻石量子技术:工程NV中心设备的进展

从半导体器件的制造到分析

tecnología plasma y deposición [español]

用于增强现实应用的斜光栅大面积干蚀刻万博电脑网页版登录

如何等离子蚀刻碳化硅(SiC)以实现器件性能的最大化

高质量inp基蚀刻:实现光滑的表面使用控制加工

量子技术的器件制造与表征

石墨烯和2D材料的器件制造

你有GaN器件的最佳栅极电介质吗?

使SiC革命:等离子体处理获得更好的性能

用于片上分析和诊断的生物医学设备的制造

半导体故障分析解决方案

光使能光:如何可靠地生产VCSEL设备

优化“肾上腺脑白质退化症”的高k新型氧化物万博电脑网页版登录

离子束沉积使高功率激光成为可能

2D材料ALD

SiC通过蚀刻

超越石墨烯的2D材料