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原子尺度处理(ASP)

原子尺度处理意味着圆片规模处理与控制在原子尺度。这种原子水平控制延伸到沉积薄膜的去除或腐蚀的材料,和增长1 d和2 d材料如石墨烯独特的独特的属性。

我们的范围的等离子体处理系统提供了一个完整的解决方案到原子尺度的处理。我们提供独特的集群能力或独立系统使操纵物质的原子尺度精密生产规模。

原子尺度处理手册

在原子尺度推动创新

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ALD的电介质

原子层沉积的电介质,氮化物和金属低伤害。我们独特的集群能力能够覆盖表面直接暴露在空气中。例如这些可以蚀刻接口或新鲜种植2 d材料,如金属氧化物半导体2石墨烯被ALD电介质覆盖或覆盖层可以为范围广泛的设备一个很大的优势。

原子层沉积的电介质和较低的金属损失

原子层沉积的电介质和较低的金属损失

化学汽相淀积

化学汽相淀积和ALD自动薄结构:1 d和2 d材料。

独特的设备可以由覆盖纳米线ALD电影或蚀刻1 d和2 d材料来调整它们的属性。

使用DEZn前兆CVD生长氧化锌纳米线

使用DEZn前兆CVD生长氧化锌纳米线。
(由纳米科学中心,剑桥大学)

心血管疾病的增长hBN

心血管疾病的增长hBN

原子层蚀刻(ALE)

原子层的蚀刻硅、氮化镓& 2 d材料。这些材料执行必要的功能在一个广泛的设备,我们的腐蚀能力这些极端的控制和低损伤可以使能技术。此外结合啤酒与沉积和生长在你的设备将提供独特的优势。

25 nm宽Si战壕蚀刻啤酒110海里深度,HSQ面具还在的地方

25 nm宽Si战壕蚀刻啤酒110海里深度,HSQ面具还在的地方。

FlexAL -退化系统

速度| |等离子灵活性

FlexAL ALD系统提供高质量的等离子体优化解决方案,满足各种需求的学术界和企业研发。

  • 远程等离子体&热退化在一个灵活的工具
  • 最大的灵活性在前兆,过程气体,和硬件配置
  • 低损和高质量的基板
  • 高质量较低的沉积温度敏感表面
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FlexAl ALD系统远程等离子体和热退化过程

研讨会:

圆片规模设备制造和电气特性描述石墨烯和二维材料

发展高性能设备使用2 d材料如石墨烯比以往任何时候都更重要。在伙伴关系Raith Gmbh是一家das-Nano缟玛瑙,这个研讨会概述了石墨烯和2 d材料制造、光刻和无损电气特性描述,处理解决方案,是下一阶段的关键驱动的技术准备。

观察记录

白皮书:

生命科学与生物医学应用设备制造:制造微流体组件万博电脑网页版登录

随着生物医学设备增加了治疗各种条件的速度和效率,半导体全球医疗技术变得越来越重要。在本白皮书中,您将学习各种加工制造微流体和活跃的挑战和解决方案的元素传感器/传感器在生物医学设备。

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