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原子尺度处理是指在原子尺度上进行控制的晶圆尺度处理。这种原子级别的控制扩展到薄膜的沉积、材料的去除或蚀刻，以及具有独特特性的一维和二维材料的生长，如石墨烯。
我们的等离子体处理系统提供了原子尺度处理的完整解决方案。我们提供独特的集群能力或独立的系统，使物质操作在生产规模上达到原子级的精度。
介质、氮化物和金属的原子层沉积，损伤低。我们独特的集群功能提供了直接覆盖表面的能力而不暴露在空气中。例如，这些可以是蚀刻界面或新生长的2D材料，如MoS2或覆盖ALD介质或覆盖层的石墨烯，这对于广泛的设备都是一大优势。
低损伤介质和金属的原子层沉积
原子薄结构的化学气相沉积和ALD: 1D和2D材料。
通过用ALD薄膜覆盖纳米线或蚀刻1D和2D材料来调整其性能，可以构建独特的器件。
利用DEZn前驱体CVD生长ZnO纳米线。
(由剑桥大学纳米科学中心提供)
hBN的CVD生长
硅、氮化镓和二维材料的原子层蚀刻。由于这些材料在广泛的设备中起着重要的作用，我们能够以极好的控制和低损伤蚀刻这些材料，这可能是一项使能技术。此外，将ALE与沉积和生长相结合将在器件制造中提供独特的优势。
25nm宽的Si沟槽被ALE蚀刻到110nm深度，HSQ掩模仍然在原位。
利用石墨烯等二维材料开发高性能器件比以往任何时候都更加重要。在伙伴关系Raith Gmbh是一家而且das-Nano缟玛瑙，本次网络研讨会概述了石墨烯和2D材料制造、光刻和无损电表征、加工解决方案，这些是下一阶段技术准备的关键驱动因素。
观察记录随着生物医学设备提高了各种疾病的治疗速度和效率，半导体技术对全球医疗保健正变得越来越重要。在本白皮书中，您将了解生物医学设备中微流体和传感器/换能器活性元件的制造的各种加工挑战和解决方案。
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