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我们提供一系列蚀刻(ICP蚀刻;RIE)和沉积(ALD;金刚石量子应用的PECVD)解决方案。万博电脑网页版登录这包括细化金刚石以改进NV中心的操作，以及结构化金刚石以实现在量子信息和传感方面的新应用。万博电脑网页版登录
我们提供三种量子钻石制造解决方案:
一个三步RIE过程，使NV中心更接近表面，同时通过o端提供额外的保护，从而实现改进的操作或量子信息存储。
1）各向同性的粒子去除
2）钻石大块蚀刻与精确停止在几个恩从NV中心
3）表面氧终止以提高NV中心的稳定性
三步RIE工艺，以创建无缺陷，光滑，o型端金刚石表面。
光子晶体、纳米腔和波导耦合到量子发射器，以改善光子生成，增加光提取，并允许长距离传输量子信息。
光学机械微盘谐振器增强自旋-光子耦合，实现对量子信息的更大操作，并为各种量子平台提供接口。
金刚石中的光子晶体
(来源:代尔夫特理工大学S. Bogdanovic)
我们的PlasmaPro 100该平台可用于量子器件的各种材料的高精度沉积和蚀刻。的FlexAL原子层沉积(ALD)系统提供了广泛的优化高质量ALD工艺。
我们的100年PlasmaPro RIE可以快速腐蚀大块材料，同时确保可控和无残留/污染的表面，非常低的粗糙度(通常低于3A)，以限制噪声和光学损失，氧气终止，为浅量子位提供额外的保护。
我们为当今量子技术研发和器件开发的各种方法提供各种器件制造挑战的关键加工解决方案。
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