狗万正网地址牛津仪器等离子技术提供世界领先的工艺解决方案硅(Si).从快速,深度,控制蚀刻到最好的纳米结构,我们有您需要的等离子体解决方案。
硅是半导体行业的基石,也是大多数MEMS器件的原材料。它的性质和丰富性意味着它永远存在于现代技术中。
蚀刻Si有几种解决方案,选择在很大程度上取决于所需的器件结构:
- 博世工艺使高蚀刻速率,选择性和各向异性
- 低温深层硅蚀刻(Cryo-DSiE)通常用于光滑侧壁和/或纳米蚀刻或微模具等应用中的锥形型材。万博电脑网页版登录
- 混合过程是浅、低侧面精细特征的一种选择
- 高质量a-Si的沉积是通过使用PECVD