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离子束

Ionfab满足多种离子束蚀刻(IBE)和沉积(IBD)工艺要求,应用范围广泛。万博电脑网页版登录

  • 单片或簇片处理
  • 多模式功能
  • 能够与其他等离子体系统聚集
  • 双光束配置
  • 极低的表面膜粗糙度
  • 批次均匀性不匹配
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要求定价

独特的技术服务于多种应用万博电脑网页版登录

离子束技术通过提供单一工具和最大化系统利用率,为蚀刻和沉积提供了一种异常通用的方法。

离子束蚀刻

  • 倾斜的腐蚀
  • 激光刻面
  • 磁阻随机存取存储器(MRAM)
  • 介质的电影
  • III-V光子蚀刻
  • 自旋电子学
  • 金属接触和轨迹
  • 超导体

离子束沉积

  • 激光小面涂层包括高反射和抗反射
  • 环形激光陀螺仪镜子
  • x射线光学
  • II-VI型红外传感器
  • 红外传感器(氧化钒,II-VI)
  • 电信的过滤器

高质量的离子束刻蚀

优越的工艺重复性和较低的拥有成本使Ionfab工具成为从研发到批量生产的可配置的优秀系统。

关键好处

  • 高级研究应用的灵活配置万博电脑网页版登录
  • 生产的均匀性和工艺重现性无与伦比
  • 灵活的晶圆处理能力-单片晶圆负载锁定或盒对盒机器人处理

腐蚀模式

  • 离子束腐蚀(IBE) /离子束铣削
  • 反应离子束蚀刻(RIBE)
  • 化学辅助离子束蚀刻

硬件特性

离子刻蚀源 150mm或300mm的多达4”和8”分别
蚀刻区 直径可达200毫米或150毫米见方
滚筒速度 高达20rpm
压板倾斜角度 光束与基材表面之间的距离为0º至75º
滚筒热 嵌入式加热器高达300ºC PID控制
滚筒冷却 流体冷却剂5ºC至60ºC,带有He或Ar背面气体,用于衬底冷却(最高50Torr)
IBE加工室原理图

蚀刻离子源

  • 三格栅装配设计
  • 网格设计为特定的蚀刻要求量身定制
  • 用于低维护的无丝直流等离子桥中和剂(PBN)

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高质量离子束沉积

高真空操作允许离子束沉积提供高质量的薄膜和优良的电学和光学性能。

关键好处

  • 高品质薄膜,超低污染
  • 高吞吐量,减少占地面积,最低的操作成本
  • 不匹配的批次均匀性和工艺再现性
  • 非常精确的光学薄膜厚度控制
  • 极低的表面膜粗糙度

沉积模式

  • 离子束溅射沉积(IBSD)
  • 离子辅助溅射沉积(IASD)
  • 活性离子束沉积(RIBD)

硬件特性

离子沉积源 150毫米
沉积区 可达200毫米
基片转速 高达20转/分钟
目标数目 多达4个目标
滚筒尺寸 可达8英寸晶片
滚筒的旋转 最高可达500rpm
压板倾斜角度 光束与基材表面之间的距离为0º至75º
IBD加工室原理图

沉积主要特征

  • 多目标旋转快门
  • 广泛的溅射靶尺寸与匹配的沉积离子源网格设计
  • 可选旋转和可倾斜高速基板支架

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关键应用的卓越性能万博电脑网页版登录

增强现实光学组合器

  • 在大加工面积上刻蚀波导组合器表面浮雕光栅的解决方案
  • 成角的SiO2光栅使用离子束蚀刻精确角度控制
  • 200毫米晶圆尺寸角度控制均匀
  • 专利解决方案,实现高产量制造

我们有多年的专业知识在蚀刻斜面上大面积。我们的解决方案旨在提供表面浮雕光栅所需的制造质量。

我们的解决方案为高达200mm的晶圆尺寸提供了市场领先的均匀性。

发现我们的ar解决方案>

边缘发射激光

  • 激光小面蚀刻,可选择角度小面蚀刻,以控制激光束发射角度
  • 高质量激光小面涂层,适用于高功率激光器
激光图像

红外传感器

  • VO具有良好的电阻重复性x电影
  • 电阻温度系数无迟滞现象
红外图像

全球客户支持

狗万正网地址牛津仪器致力于为全球客户提供全面、灵活和可靠的支持。我们在您的系统的整个生命周期内提供优质的服务。

  • 远程诊断软件提供快速、简便的故障诊断和解决方案
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