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虽然许多技术都被认为可以提供真正的沉浸式AR体验，但波导方法受到了主要参与者的青睐，如微软Hololens和Vuzix，因为它能够实现高视场。
我们在大面积蚀刻倾斜光栅方面拥有多年的专业知识，我们的解决方案旨在提供高产量所需的制造质量。
我们支持制造商在可获得的倾角范围内达到最佳的光学效率。
我们用于IBE的离子晶圆系统已配置为200毫米晶圆尺寸上的市场领先均匀性。
我们的专有离子束技术和专利网格设计允许我们生产标准45°光栅具有卓越的精度。我们的加工能力涵盖各种材料，如硅和硅2．
集群配置选项是可用的，使用现场证明，高度可靠的真空转移机器人。
优越的工艺重复性和较低的拥有成本使Ionfab工具成为从研发到批量生产的可配置的优秀系统。
晶圆放置在基片支架上，基片支架的角度朝向离子源。衬底支架的角度可以调整为启用角度刻蚀。
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