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虽然许多技术都被认为可以提供真正的沉浸式AR体验，但波导方法一直受到微软Hololens和Vuzix等主要厂商的青睐，因为它能够实现高视野。
我们在大面积蚀刻倾斜特征方面有多年的专业知识。我们的解决方案旨在提供表面浮雕光栅所需的制造质量。我们支持制造商达到最佳的光学效率与倾斜角度范围可用。
我们在开发倾斜光栅解决方案方面拥有多年的专业知识。我们的解决方案提供了市场领先的一致性晶圆尺寸高达200mm。
我们专业的掩模开模、光栅蚀刻和表面处理解决方案。
我们先进的等离子体加工解决方案ICP刻蚀，RIE而且离子束蚀刻-可处理高达200mm尺寸的晶圆，用于大批量生产AR设备。我们的IonfabIBE系统已配置为200mm晶圆尺寸上的最佳均匀性。
我们的专有离子束技术和专利网格设计使我们能够生产精度极高的标准45°光栅。我们的加工能力涵盖各种材料，如硅和硅2.
集群配置选项可用，使用经过现场验证的高可靠性真空转移机器人用于掩模蚀刻和AR涂层模块。
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