原子层沉积超导量子比特

量子效率的设备严重依赖的选择和手术期间超导材料的质量。原子层沉积(ALD)是一种先进的技术,存款与量子精密超薄薄膜。

我们的退化过程使您产生电影与纯度高,精确的厚度控制,保形涂层在高纵横比在大面积基板结构和均匀性。

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对超导单光子探测器的材料是很重要的选择展品超导行为在高临界温度(Tc)为了避免额外的制冷机低Tc材料所需的技术,而量子效率(QE)和量子检测这些设备的效率最大化。

下载我们的白皮书和学习的优势,我们的原子层沉积过程提供了超导设备。

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超导金属氮化物展览超导行为在高临界温度(Tc),实现更好的性能在量子设备损耗本机氧化物因为他们低于典型气急败坏的超导材料。我们已经开发出一种plasma-enhanced ALD过程沉积高质量,高Tc NbN公司禁止超导设备。

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我们成功地沉积超导锡通过血浆ALD使用偏差可以很好地调整电影属性如室温电阻率、结晶度和压力。因此,这已经达到了临界温度的3 K 90纳米薄膜沉积在250°C

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结合血浆ALD的好处(PE-ALD)与其他技术集群系统的能力和释放独特的功能。

去除无定形氧化本地种植优质PE-ALD之前₂O₃通过:

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(来源:Jinesh et al ., 2011)

的FlexAL原子层沉积(ALD)系统提供了一个广泛的高质量的退化过程优化隧道的制造障碍和钝化层各种量子设备,并使超导薄膜的沉积具有高临界温度,tsv谐振器和单光子探测器。

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