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VCSEL技术的未来

| Mark Dineen博士

VCSELs的未来

几年前我参加了一个会议,会上VCSEL行业被描述为永远的“家庭手工业”,对于那些不熟悉这个术语的人来说,这意味着小规模的、按规格生产的单个产品。时间快进到2017年,苹果公司在iPhone X上推出了面部识别功能,这条评论被震撼了。数百万iphone的市场吸引力意味着数百万相同的vcsel需要以有效成本生产,vcsel已经从家庭手工业转向大批量生产。这对VCSEL制造业意味着什么?当新的应用,如激光雷达等开始发挥作用时,又意味着什么?万博电脑网页版登录

晶片大小

半导体行业的格言之一是“晶圆尺寸越大越好”,VCSEL晶圆也不例外。最近的发展已经将晶圆从100毫米提高到150毫米,提供更多的毫米2每个流程的运行成本类似。然而,增加的表面积会对产量产生负面影响,这就是我们接下来要做的。

收益率

长期以来,VCSEL制造工艺一直存在成品率低的问题。以光圈氧化为例。氧化速率随氧化铝含量呈指数变化。因此,如果铝含量在晶圆上发生哪怕是轻微的变化,你就会得到孔径大小的巨大变化,因此晶圆的性能和成品率就会很差。为了减少这种影响,在外延层控制和氧化率方面已经取得了很大的进展。它已被证明在150毫米口径上是成功的。

等离子体处理,这是牛津仪器等离子技术的切入点,也必须开发解决方案。狗万正网地址蚀刻复杂的多层不同的材料,顺利和一致地跨越晶圆并非易事。我们专门为这项任务开发了流程和硬件解决方案,非常高兴地看到我们的大批量生产客户使用这些解决方案,并取得了良好的效果。

收益率反映的是所有权成本,所有权成本决定了公司的盈利能力,所以我们总是在想‘下一步会是什么?”


接下来是什么?

驱动到更高的功率,得到更多的光在给定的表面积。实现这一目标意味着将vcsel聚在一起,那么这是如何影响等离子体处理的呢?以一种简单的、物理的(我喜欢简单的)方式看待事物,你不希望一个设备的几何结构与另一个设备重叠。如果这样做,就会产生干扰,设备的运行效率就会降低。实际上,这意味着更清晰的功能,一个VCSEL底部的长“脚”不会合并到隔壁的。我们已经开发了一种高超的低脚蚀刻工艺,这意味着vcsel可以比以往任何时候更紧密地在一起。

另一个不同要求的例子是表面钝化。随着vcsel的靠近,它们之间的间隙相对于特征的高度缩小,这可能导致长弦比(AR)相关的效应,等离子体过程是材料传输的限制。通过使用复杂的技术,如原子层蚀刻(ALD), AR效应可以在这些水平上消除,确保材料在整个表面的保形涂层。

vcsel已经进入消费设备的主流,证明在交付新的用户体验方面非常成功。未来将看到它们被更广泛地采用,牛津仪器等离子技术作为复合半导体大批量生产的选择,使拥有成本实现这一点。狗万正网地址

学习如何生产高功率VCSEL阵列在这里。

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