的真空涂布机协会(SVC)应该得到更好的了解。该公司成立于1957年，当时真空镀膜技术(如溅射和蒸发)的使用正在激增。这种技术可以追溯到很久以前:1892年，爱迪生申请了为留声机圆筒涂覆的专利(这种技术永远不会流行起来)。你知道吗，你的薯片包里有光泽的表面是一层真空涂层，可以防止水分进入。从玻璃和屏幕上的防反射涂层，到组成计算芯片的最薄层，这些技术无处不在。

本周我将在罗德岛普罗维登斯召开的SVC-2017会议上发言。罗德岛的春天，总得有人去吧。这些天，会议已经扩大到各种表面工程，我将讲述原子层蚀刻(ALEt)。等离子科技公司已经在这方面工作了近两年，我们已经申请了自己的专利。一种可以在去除材料的同时使底层材料几乎完好无损的技术吸引了很多人的兴趣。点击这里了解更多。

等离子体蚀刻使氯等化学气体与表面接触，同时伴随着正离子轰击。离子破坏了表面，让活性气体进入。新的挥发性化合物形成了，它们离开了表面，带走了一些固体。蚀刻可以是非常垂直的，因为正离子已经直接加速到表面。原子层蚀刻及时分离化学轰击和离子轰击的步骤:首先化学剂量吸附在固体表面，然后非常低能量的离子轰击只去除化学剂量和固体中束缚的原子。速度很慢，但如果你不想把表面弄得乱七八糟的话，这是理想的做法。

欲了解更多信息，请访问www.oxford-instruments.com/ASP如有任何问题请发邮件至Plasma-marcoms@oxinst.com

作者:Mike Cooke博士