Ultim^®极端的

EDS在SEM中的空间分辨率和低能量性能。将极端电子和无窗结构与优化的几何结构和传感器设计相结合，可提供比传统大面积SDD高15倍的灵敏度。

生物样品分析在低KV与轻元素敏感性
Li x射线的探测与测绘
在小于2kV的能量下工作，可在散装样品中提供10nm以下的空间分辨率
材料在1kV以下的特性
与浸没式光学相结合，可收集高达30kV的高灵敏度数据

Ultim极硅漂移探测器是超高分辨率FEG-SEM应用的突破性解决方案，提供超越传统微观和纳米分析的解决方案。万博电脑网页版登录

Ultim Extreme是一个没有窗户的100毫米²Ultim的版本设计最大限度地提高灵敏度和空间分辨率。它使用了一个基本的几何结构，在低kV和短工作距离的情况下，优化超高分辨率feg - sem的成像和EDS性能。使用Ultim Extreme, EDS分辨率接近SEM。

Ultimate SEM-EDS空间分辨率
- FEG-SEM中亚10nm元素的表征
表面科学敏感性
- 在扫描电镜中表征表面
最低千伏材料鉴别
- 低至1kV材料特性
最快、最准确的纳米表征
- 快速采集，实时处理大量样本数据
对光元素极度敏感
- 锂、氮和氧等元素的可探测性达到了新的水平

生物科学的解决方案材料科学解决方案

生物样品的解决方案

Ultim Extreme为生物样品提供明确的元素检测，能够在低kV条件下快速、准确地收集数据，适用于生命科学SEM应用。万博电脑网页版登录非常短的工作距离和无窗获奖探测器设计，结合我们优化的电子设备和数据处理，可使低能x射线的灵敏度提高10-30倍。

用于生物应用的Ultim Extreme检测器演示:万博电脑网页版登录

对包括氮在内的轻元素极具敏感性
与传统检测器相比，数据收集速度快，计数率高
低千伏分析，减少/消除样品损伤和充电工件
染色和未染色样品的高分辨率超微结构映射，非常适合3D扫描电镜应用万博电脑网页版登录

在铝存根上取100nm未染色叶组织切片，2.5kV成像15分钟。

金星捕蝇器的叶子和腺体用Ultim Extreme探测器在5千伏下成像。分层EDS图显示了清晰的氮信号，以及不同的锇和锌定位(左)。当应用于阵列断层摄影术在多个切片上收集的后向散射图像时，锇可以用作掩膜(中间图像中的黄色和右边图像中的粉红色显示叶绿体的3D数据)。

了解更多生物学信息下载白皮书

材料科学解决方案

Ultim Extreme是超高分辨率FEG-SEM的突破性解决方案。这种独特的探测器首次能够在极低kV(例如1-3kV)和极短的工作距离下收集EDS数据，在客户用于分析纳米材料和表面的最高SEM分辨率的条件下提供元素分析。

最新的超高分辨率feg - sem为研究更小的纳米结构、界面和表面提供了新的能力。然而，在工作距离很短、kV很低、束流最小的条件下，利用透镜内探测器的新电子信号对比，没有电流EDS可以提供支持的元素表征。Ultim Extreme改变了这一点，它是专门设计用于在这个分析机制中运行的:

独特的几何
- 设计用于工作在较短的工作距离
- 为传统端口安装的EDS检测器设计了最高的实心角-通常比Ultim Max 170的实心角大5倍，传感器到样品的正常距离为一半
没有窗户的操作
- 与任何其他大面积探测器相比，固体角10-30倍的低能x射线灵敏度更高
新型探测器电子器件提高了对极低能x射线的灵敏度，并在更高计数率下扩展了低能分析性能
与AZtecLive及其truu - q集成^®分析引擎用于低千伏数据的处理和分析
- TruMap优化低千伏重叠校正

为了实现这种独特的几何形状，Ultim Extreme采用了100毫米的非圆形设计²传感器和无窗配置已经成功应用于X-Max^N100TLE优化TEM的灵敏度。此外，该探测器具有一个新的减少足迹电子陷阱配置，允许精确定量分析高达7kV的束流电压与定性元素分析在更高的能量。

扫描电镜下亚10nm元素的表征
x射线地图分辨率接近SEM分辨率

例1:半导体器件

在3kV电压下获得的智能手机CPU x射线图。30分钟38,000cps -样本和数据由MSSCorps提供。

例2:Sn成像标准

2kV锡纳米球高分辨率成像标准下x射线成图，6,500cps，采集时间15 min。

例3:镍基高温合金

细倪_3.(NbTi) γ”在718合金中析出，在1.5 kV, 2000 cps下收集18分钟样本和数据由曼彻斯特大学提供。

使用Ultim Extreme，用户可以表征表面污染物和几个原子厚度的层的组成和分布。

集成表面特征与扫描电镜研究
分析只有在极低kV和较短工作距离下才能用透镜内探测器可见的表面结构
节省金钱和时间与Auger/XPS

示例:在1kV下收集x射线图，以表征使用In Lens SE成像检测的高端电子元件染色。

材料特性在2kV或更低

完全集成EDS，极低千伏电子显微镜有利于样品的表征
- 增强信号对比度
- 减少样品损坏，例如聚合物和软涂层
- 减少充电或达到充电平衡条件

例如:将加速电压从10 kv降低到1.5kV，可以使电子图像对比显示氧化物粒子的分布。在相同条件下的x射线作图显示出与MnOB相同的沉淀物特征。地图采集时间15分钟。样品由JFE Steel提供。

nano-characterisation最快

高速采集
实时处理低千伏光谱数据
批量样品-简单的样品制备

示例:在3kV, 15,000cps下收集x射线定量图，持续22分钟，以表征镍基高温合金(合金718)中的NbTi氮化物和Al氧化物纳米沉淀物。样本和数据由曼彻斯特大学提供。

最精确的纳米表征

实时数据处理
无与伦比的低能谱质量和完整性
快速自动元件识别
低能x线系列的峰重叠校正

示例:低能谱线处理，以创建定量图，以表征镍基高温合金(合金718)中的NbTi氮化物和Al氧化物纳米沉淀物。

Ultim Extreme采用特殊的电子陷阱和无窗操作来实现所需的性能，以满足其目标应用。万博电脑网页版登录其无窗操作可提高轻元素的计数率2-3倍，可检测到的最高谱线的计数率近1.5倍。结合立体角的改进，这提供了10-30倍的灵敏度提升相比，传统的大面积SDD薄窗口。对于极低能量线，改进甚至更大，并通过使用为锂探测开发的极端电子设备进一步增加。

无窗配置提供最灵敏的光元素检测
- 与传统SDD探测器相比，信号增加了3倍
- 这为探测氮等难处理元素提供了新的可能

例子:锂的首次探测

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Ultim极端

Ultim Extreme是一个没有窗户的100毫米²Ultim的版本设计最大限度地提高灵敏度和空间分辨率。它使用激进的几何结构来优化超高分辨率feg - sem中的成像和EDS性能。

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