Spie Advanced Strocy 2022

40多年来，SPIE Advanced光刻在将微观和纳米印刷界汇集在一起​​方面发挥了关键作用。光刻仍然受到挑战，要扩展到不断缩小的几代人，但仍然可以制造且具有成本效益。

会谈

2020年2月26日星期三

• 会议5：通过电感耦合等离子体（ICP）和III-V材料的原子层蚀刻（ALE）的低损伤蚀刻，以实现下一代设备性能。作者（S）：）：马克·迪尼恩（Mark Dineen），马修·洛夫赛（Matthew Loveyay），安迪·固特（Andy Goodyear），迈克·库克（Mike Cooke），安德鲁·牛顿（Andrew Newton），斯蒂芬妮·贝克特狗万正网地址（Stephanie Baclet），塔尼亚·汉库玛拉·牛津（Tania Hemakumara）牛津仪器（Tania Hemakumara Oxford Instruments）等离子体技术有限公司（英国）。
  
  
• 会议6：III-V材料的原子层蚀刻以实现下一代设备性能（受邀纸），Craig Ward，牛津仪器等离子体技术有限公司（美国）。狗万正网地址

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