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光子学+虚拟展览和会议

光子学+虚拟展览和会议与EPIC的合作,是一个新的,高效的光电子行业的网络活动,预计将举行第二次2021年6月29日+ 30日13:00 - 17:00 CEST时区。

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在光子+会议期间,我们将讨论如何在高ri材料中蚀刻倾斜的功能,用于增强现实和其他应用。万博电脑网页版登录

周三6月30日,15:30 - 15:40 PM(BST)
讨论题目:
倾斜蚀刻高RI材料
演讲者:
牛津仪器等离子体技术应用万博电脑网页版登录工程师狗万正网地址

由于其折射率,目前基于聚合物的增强现实(AR)玻璃达到视野的上限。使用的电流树脂具有n≤1.9,似乎是进一步改善这一点的重要障碍。玻璃基板和涂层已经很容易获得,具有n> 2,例如Zro2和TiO2因此可以替代现有技术。将这些材料蚀刻在二元或斜波导中需要开发新的工艺和使用更新颖的技术。在这项工作中,我们证明了基于树脂和薄牺牲层的纳米压印光刻可以作为TiO的斜蚀刻的掩模2使用反应离子束蚀刻(RIBE)的波导。此外,我们证明这个过程可以转移到其他高RI材料,如玻璃。这项工作是基于与EV Group合作完成的工作1

参考:

1.m . Eibelhuber,“朝向Ar波导,利用Nanoimprint LithoGrpahy,”Proc。SPIE 11765,用于在增强,虚拟和混合现实(AR,VR,MR)II,117650H(3月29日)中的展示和感应的光学架构;DOI:10.1117 / 12.2579505


地点

虚拟

业务

等离子体技术

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