| 演讲题目 | 主持人 | 组织 |
| MEMS应用的干蚀刻万博电脑网页版登录 | 钟博士任 | 狗万正网地址 |
| 场发射扫描探针光刻和低温等离子体刻蚀超越CMOS器件 | 马丁博士霍夫曼 | 图尔 |
| 利用衬底偏压调节等离子体ALD材料性能 | 伤害努普博士 | 狗万正网地址 |
| 原子层蚀刻 | 马修Loveday博士 | 狗万正网地址 |
| 用于射频和功率应用的通孔和特性的SiC蚀刻万博电脑网页版登录 | 萨曼莎Mazzamuto博士 | 狗万正网地址 |
| 用于光电子工业的石墨烯和基于2D材料的器件:(PE) CVD， (PE) ALD, RIE和ALE | 弗朗西斯科·Reale | 狗万正网地址 |
| 回顾InP蚀刻工艺，包括终点检测和等离子体清洁工艺 | 凯蒂·马博士 | 狗万正网地址 |
| 等离子体沉积PECVD与ICP PECVD | Owain托马斯博士 | 狗万正网地址 |
| 用于VCSEL制备的AlGaAs/GaAs工艺综述 | 凯蒂·马博士 | 狗万正网地址 |
| 带间级联激光脊波导的深度刻蚀 | 约翰内斯Hillbrand | FKE and ZMNS, TU Wien |
| 演讲题目 | 主持人 | 组织 |
| 用离子束刻蚀InP & GaAs | Sebastien Pochon博士 | 狗万正网地址 |
| 等离子体氧化SiC-SiO2堆过渡层性质的研究 | Gernot Fleckl | TU Wien - ISAS |
| 离子束应用的终点万博电脑网页版登录 | Sebastien Pochon博士 | 狗万正网地址 |
| 高效等离子体清洗PECVD | Owain托马斯博士 | 狗万正网地址 |
| 基于等离子体加工的ZnO光电子学 | Borislav Hinkov | FKE and ZMNS, TU Wien |
| 金刚石蚀刻-应用与挑战万博电脑网页版登录 | 安德鲁·牛顿博士 | 狗万正网地址 |
| 氮化镓低损伤蚀刻的ICP、RIE和ALE | 马修Loveday博士 | 狗万正网地址 |
| 低损耗集成光子学元件的硅蚀刻 | 钟博士任 | 狗万正网地址 |
| 高性能THz QCLs的双金属波导制作 | 马丁Kainz | u. ZMNS, TU Wien |
| 生物医学器件的制备:相关等离子体处理技术综述 | 伤害努普博士 |
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| VOx及其他材料纳米层的离子束沉积 | Sebastien Pochon博士 |
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人均费用:€包括为期2天的研讨会和9月17日的晚宴
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