半导体
fertigong, Charakterisierung和fehleranalysis von Halbleiterbauelementen

在德国kostenlosen网络研讨会上,我们的论坛Ätz-和阿伯沙伊东斯特恩斯特尼肯贝尔德斯特隆·冯·定性特夫·霍赫沃蒂根哈尔布雷特·鲍恩特恩·爱因斯坦特恩können。

Ferner erläutern wir创新Bildgebungs- und Analysetechniken, die zur Prüfung der Eigenschaften von Halbleiterbauelementen dienen。

Schließlich behandeln wir Techniken zur Identifizierung von bauteildefkten und zur fehleranalyze。

Sie lernen werden:

✅Wie man等离子体技术,zur Herstellung von Bauelementen einsetzt
✅我们的人是赫斯特隆·冯·哈尔伯莱特·鲍埃尔蒙特·德赫斯特隆·冯·哈尔伯莱特·鲍埃尔蒙特·德Ätz
✅weiman Rafterkraftmikroskopie (AFM)和能量分散Röntgenspektroskopie (EDS) zur Prozesskontrolle和Fehleranalyse einsetzt
✅Wie Halbleiterbauelemente im Nanobereich aufgebaut und analysiert werden

德国的Ihr Vetriebsteam:

  • 弗洛里安·约翰博士,牛津仪器收容所技术狗万正网地址
  • Marc Sellschopp,牛狗万正网地址津仪器,等离子技术
  • 多米尼克·齐默博士,牛津仪器纳米分析狗万正网地址
对需求
时间:

对需求

持续时间:

45分钟

语言:

德国

万博手机登录网企业:

等离子体技术,庇护研究,纳米分析

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