用原子力显微镜(AFM)测量薄膜和衬底表面粗糙度

描述

表面粗糙度是一种重要的测量薄膜和基片的广泛应用，包括半导体电子、数据存储、光学和其他玻璃组件，以及从纸张到食品包装的薄膜和涂层。万博电脑网页版登录在加工过程中，表面粗糙度既是监测沉积、蚀刻和抛光步骤的有用度量，也是成品材料中常用的质量控制措施。新材料和新工艺使得表面具有极低的粗糙度，这是很难或不可能用传统的手写笔和光学轮廓仪来描述的。

本次网络研讨会将介绍原子力显微镜(AFM)作为一种强大的测量工具，可以测量从埃到几十或数百纳米尺度的粗糙度。的来自庇护研究中心的最新AFMs可以使这些测量更快，更容易，并具有更高的精度，比上一代afm仍在普遍使用。这些能力将通过从与工业和学术研究相关的材料中提取的案例研究来突出。

参加网络研讨会，了解更多关于:

• AFM与其他粗糙度测量技术相比如何
• AFM可以测量的粗糙度参数类型
• 用原子力显微镜进行粗糙度测量的实际考虑
• 用AFM进行典型粗糙度测量的步骤
• 最新的Asylum AFMs如何改进粗糙度表征
• 几种不同材料表面粗糙度测量的实例研究

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