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压电响应力显微镜(PFM)是一种原子力显微镜技术,可用于表征许多材料系统的机电耦合功能,包括压电、铁电和某些生物材料。通过AFM尖端对样品局部施加一个电刺激,同时同时测量~1-100 pm/V的机械响应。该技术既涉及基础材料科学研究,又涉及丰富的应用技术领域。Asylum Research通过使用各种先进和专有的测量技术和能力,提供无串扰、高灵敏度的PFM测量,被公认为全球商用PFM技术的领导者。
现在用于加密AFM的干涉位移传感器(IDS)选项d33测量具有更强的可重复性和无人工干扰。干涉检测直接测量悬臂梁偏转而不是悬臂角用于常规光束检测(OBD)。IDS消除了由于静电耦合造成的干扰。通过下载下面的白皮书了解IDS如何改进PFM测量。
向AFM专家咨询更多信息无金属三维钙钛矿铁电体,h - y。你们,y y。唐,P.-F。李,W.-Q。廖,J.-X。高,X.-N。蔡华华,p - p。施,Y.-M。你,R.-G。熊,科学361151(2018)。https://doi.org/10.1126/science.aas9330
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A. Gruverman, D. Wu, H. Lu, Y. Wang, H. W. Jang, C. M. Folkman, M. Y. zhuuravlev, D. Felker, M. Rzchowski, C.- b。Eom和E. Y. Tsymbal,Nano。93539(2009)。https://doi.org/10.1021/nl901754t
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